佐々木成朗研究室の大向秀弥さん（基盤理工学専攻博士前期2年）が、2019年3月1日に東京理科大学 神楽坂キャンパスで開催された第4回東京理科大学ー電気通信大学合同研究会において、優秀講演賞（最優秀）を受賞しました。
本賞は、ポスターセッションで優秀な発表を行った学生に授与されるものです。今回は51件のポスター発表に対して審査員が投票を行い、大向さんは最優秀発表者（1名のみ）として表彰されました。
【論文題名】
グラフェンのナノスケール摩擦における積層界面のモアレ像の解析
【著者】
大向秀弥、佐々木成朗
![表彰状]()
- 授賞式の様子（右端から4人目が大向秀弥さん）
